8寸立式氧化退火爐管設(shè)備
功能
技術(shù)參數(shù)
Bhadra?立式高溫氧化爐HBO200
功能
主要應(yīng)用于8英寸中高溫氧化和退火工藝，設(shè)備可以制作出工藝需要的二氧化硅膜，對產(chǎn)品起保護(hù)、鈍化、緩沖介質(zhì)等作用，也可以用于消除晶格缺陷作用。
或電話聯(lián)系：
86-18924169069 / 020-31569374
技術(shù)參數(shù)
晶圓尺寸：8英寸
工藝類型：干氧、濕氧、二氯乙烯氧和高溫退火
適用材料：硅
應(yīng)用領(lǐng)域：功率半導(dǎo)體、集成電路、襯底材料、科研
