12寸立式氧化退火爐管設備
功能
技術參數
Bhadra? 立式高溫氧化爐HBO300
功能
主要應用于12英寸中高溫氧化和退火工藝，設備可以制作出工藝需要的二氧化硅膜，對產品起保護、鈍化、緩沖介質等作用，也可以用于消除晶格缺陷作用，激活原子排列。
或電話聯系：
86-18924169069 / 020-31569374
技術參數
晶圓尺寸：12英寸
工藝類型：干氧、濕氧、二氯乙烯氧和高溫退火
適用材料：硅
應用領域：功率半導體、集成電路、襯底材料、科研
