Bhadra?立式LPCVD BLD300
功能
主要應(yīng)用于12英寸低壓化學(xué)氣相沉積,生長出的薄膜具有高純度、高均勻性和較好的臺階覆蓋能力
或電話聯(lián)系:
86-18924169069 / 020-31569374
技術(shù)參數(shù)
晶圓尺寸:12英寸
工藝類型:應(yīng)用于Poly、Nitride、TEOS工藝
Poly:作為柵極和虛設(shè)柵極(Dummy Gate)
Nitride:用做硅片最終的鈍化保護(hù)層,掩膜工藝和淺槽隔離工藝
TEOS:應(yīng)用于絕緣膜,淺槽隔離的填充物
適用材料:硅
應(yīng)用領(lǐng)域:功率半導(dǎo)體、集成電路、科研